THEIA 超快平面原子层沉积系统

THEIA 超快平面原子层沉积系统

THEIA 是一款高性能,稳定,灵活,可靠且安全的研发型原子层沉积系统,兼具工业生产解决方案的优势。THEIA 可进行升级改造,从而满足科学研究的各种需求,并实现从“研发”到“生产”的无缝衔接。

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THEIA 解决了困扰 ALD 工艺多年以来的问题:效率与维护。ALD 虽然拥有较好的膜厚控制与均一性,但因为效率不高,市场容量仍然低于 CVD。Forge Nano 拥有 SMFD-ALDTM 超快沉积技术,可实现最快 12-30nm/min 的沉积效率,将 ALD 沉积效率提升到新的高度。同时实现前驱体高利用率以及低维护成本,与 CVD 相比,THEIA的集成减排设计可以实现污染物“零排放”,避免了环境污染问题,节约大量成本,为 ALD 工艺提供了新的参考标准。

 

专利技术 SMFD-ALDTM 超快沉积 12-30 nm/min 
低维护周期 平均每 50 μm 沉积后维护一次
专利阀门 可实现 <1ms 开关控制,寿命可达 1 亿次循环,在 220℃ 下长期稳定工作
薄膜不均匀度 <1%
可容纳 3 片 75-300mm 基片,300×300×10mm 的腔室

 

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